| Найдено документов - 1 | Источник: Hlatshwayo, T. T. Comparative study of the effect of swift heavy ion irradiation at 500 degrees C and annealing at 500 degrees C on implanted silicon carbide. - DOI: 10.1039/c6ra13592g // RSC Adv... | Версия для печати |
Сортировать по:
1. Журнал
Вид публикации: журнал
RSC Advances. - United Kingdom : Royal Society of Chemistry. - ISSN 2046-2069.
Внешний ресурс:
Отраслевые рубрики: химия, химическая технология
Ссылка на биб.описание: lib.uni-dubna.ru//PAP/UserEntry?Action=FindDocs&ids=9802&idb=pap
Подробнее