Плазменная технология в производстве СБИС / Толливер Д., Новицки Р., Хесс Д. и др.; под редакцией Н. Айнспрука, Д. Брауна; перевод с английского Ю. М. Золотарева, В. В. Юдина под редакцией Е. С. Машкова. - Москва: Мир, 1987. - 470 с. - Предм. указ.: с. 463.Отраслевые рубрики: микроэлектроника, радиоэлектроника, радиоэлектронная аппаратура (РЭА), электроника Ключевые слова: диффузионный барьер, интегральные схемы, металлизация, осаждение из газовой фазы, плазменная обработка, плазменная технология, распыление, сверхбольшие интегральные схемы (СБИС), травление
| Сигла хранения | Всего экз. | В наличии | Заказано | | абонемент | 1 | 1 | 0 |
| 
Блог Мишки Б.
