Основы конструирования и технологии производства радиоэлектронных средств. Ионно-плазменные технологии: учебник для бакалавриата и магистратуры / Иванов Владимир Иванович, Лучников Петр Александрович, Сигов Александр Сергеевич, Суржиков Анатолий Петрович; Томский политехнический университет; под редакцией А. С. Сигова. - Москва: Юрайт, 2020. - 270 с. - (Высшее образование). - Лит.: с. 236. - ISBN 978-5-9916-7153-8.Отраслевые рубрики: радиоэлектроника, радиоэлектронная аппаратура (РЭА), техника, технология, электроника Ключевые слова: быстрый отжиг, вторичная ионно-ионная эмиссия, геттерирование, дефектообразование, диодные системы напыления, диффузионная сварка, изохорный отжиг, имплантация ионов, ионно-лучевое травление, ионно-лучевые методы, ионно-плазменное напыление, ионно-плазменное травление, ионно-плазменные технологии, ионное легирование, ионное осаждение, ионное перемешивание, ионное распыление, ионы, источники ионов, конструирование, лазерно-имплантационный метод, легирование, магнетронные системы напыления, напыление, обратное рассеяние, плазма, плазменное травление, подложки, полимеризация в плазме, полимерные пленки, пробеги ионов, радиационные эффекты, радикальное травление, термический отжиг, технология производства, тонкие пленки, травление, триодные системы напыления Условия доступа:
ЭБС ЮРАЙТ
Доступ по логину и паролю. Доступ до 07.02.2024.
| 
Блог Мишки Б.
